Microfocus x - източник на лъчи

Образна диагностика с висока разделителна способност
Microfocus x - източници на лъчи постигат под - микроносни размери на петна (до 0,5 μm), което позволява откриването на дефекти, по -малки от 1 μm в промишлени проби. Тази точност е много важна за анализ на микроелектронните компоненти и батерията.

 

 

Интегрирани с високи - захранване на напрежението, съвременните MFX единици тежат под 50 кг, дори мисълта 5 кг, улесняване на инспекцията или oofline в автоматизирани производствени линии.

Полупроводникова промишленост: Открива празнините на ставите на спойка и дефектите на телените връзки в чипс и пукнатини в метал, като например, затапящи части, алуминиеви части и т.н.

 

Контрол на качеството на батерията: Открива неравномерността на електрода и разпределението на електролитите в литий - йонни клетки.

Разширени материали: Анализира порьозността на 3D отпечатани сплави и композитни структури.

Очаква се глобалният пазар на MFX да нарасне при CAGR от 8,3% (2023 - 2032), воден от търсенето на неразрушително тестване на
Електрически превозни средства и AI - системи за проверка.

Китайските производители като Dinghua технологията ускоряват локализацията, намалявайки зависимостта от чуждестранните доставчици.